PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術(shù)，該技術(shù)使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。PVD涂層技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應于三類(lèi)PVD技術(shù)，相應的真空鍍膜設備還具有三種類(lèi)型：真空蒸發(fā)鍍膜機，真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。在過(guò)去的十年中，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展迅速，并且已成為當今zui先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機通常是指真空離子鍍膜機。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

真空PVD鍍膜涂層可以解決部分壓鑄模具碰到的問(wèn)題，通過(guò)在模具表面沉積一層涂層，這一類(lèi)的涂層的顯著(zhù)特點(diǎn)是具有較高的厚度和耐高溫性能，真空PVD鍍膜涂層的加入可以有效的改善抗高溫性能，表面硬度和抗yang化性，同時(shí)表面涂敷的真空PVD鍍膜涂層可以抵抗沖擊金屬液體的沖擊。常見(jiàn)的壓鑄模具涂層有TiAlN，AlCrN和AlTiCrN等。常見(jiàn)的思路是利用一層較硬的真空PVD鍍膜涂層來(lái)抵抗金屬液體帶來(lái)的高溫以及對模具的沖刷等。以上幾種涂層都具有較好的耐高溫性能和低于0.5的對鋼摩擦系數，可以有效的解決黏料和驟冷驟熱造成的變形。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

烘烤，將鍍件烘烤加熱到所需溫度。(5)離子轟擊，真空度一般在10Pa～10-1Pa，金屬表面不銹鋼鍍鈦服務(wù)，離子轟擊電壓200V～1kV負高壓，離擊時(shí)間為5min～30min，(6)預熔，調整電流使鍍料預熔，調整電流使鍍料預熔，除氣1min～2min。(7)蒸發(fā)沉積，根據要求調整蒸發(fā)電流，直到所需沉積時(shí)間結束。(8)冷卻，鍍件在真空室內冷卻到一定溫度。(9)出爐，．取件后，關(guān)閉真空室，抽真空至l×l0-1Pa，擴散泵冷卻到允許溫度，才可關(guān)閉維持泵和冷卻水。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制